磨粒流抛光机处理波纹管内孔提升光洁度的核心工艺可分为以下三部分：
软磨料流动性：利用半固态磨料的高渗透性，通过压力驱动磨料在波纹管弯曲内孔中充分流动，覆盖常规抛光工具难以触及的波纹凹陷区域。
研磨方向控制：磨粒沿内孔轴向形成定向研磨轨迹，有效消除传统旋转抛光产生的交叉纹路，实现纹路一致性。
粗糙度改善：可将Ra值从初始0.8μm降至0.1-0.2μm级镜面效果（需配合在线粗糙度检测）
形态保持：材料去除量控制在±5μm内，保障波纹管波形参数不变形
性能增强：抛光后内孔流阻降低40%-60%，适用于高精度液压/气动系统
注：对深度＞50μm的原始波纹，建议先进行珩磨预处理（Ra≤0.6μm）再实施磨粒流抛光
磨粒流抛光机处理波纹管内孔提升光洁度的核心工艺可分为以下三部分：
软磨料流动性：利用半固态磨料的高渗透性，通过压力驱动磨料在波纹管弯曲内孔中充分流动，覆盖常规抛光工具难以触及的波纹凹陷区域。
研磨方向控制：磨粒沿内孔轴向形成定向研磨轨迹，有效消除传统旋转抛光产生的交叉纹路，实现纹路一致性。
粗糙度改善：可将Ra值从初始0.8μm降至0.1-0.2μm级镜面效果（需配合在线粗糙度检测）
形态保持：材料去除量控制在±5μm内，保障波纹管波形参数不变形
性能增强：抛光后内孔流阻降低40%-60%，适用于高精度液压/气动系统
注：对深度＞50μm的原始波纹，建议先进行珩磨预处理（Ra≤0.6μm）再实施磨粒流抛光
